中國據報研國產DUV晶片光刻機　分析：料影響全球產業供需格局

【有線新聞】據報中國開始生產自行研發DUV晶片光刻機，分析預期或影響日後半導體等產業的供需格局。
中國近年積極推動國產替代以減低對外國科技依賴，如今迎來新突破。The information引述消息指，有國資背景生產商已經開始自主研發晶片生產核心設備深紫外線DUV光刻機。據報初期產量有限，今年將生產約5部，明年則會增加至20部。目標是今年內交付予內地晶片龍頭，包括中芯、華虹和長鑫存儲。
過往內地使用的晶片光刻機主要由荷蘭廠商ASML供應，如今出現國產替代，有大行認為將會對ASML帶來輕微負面影響。但目前全球正面對晶片設備供不應求，預期ASML中期盈利不會受顯著影響。
行業方面，有分析認為國產光刻機出現有可能影響日後全球半導體需求格局。獨立策略分析師何啟聰：「如果中國有自己的光刻機，有機會很快加大國產半導體、晶片，甚至內存記憶體產能。如果這方面產能加大，往後全球產能短缺，幾年後可能有改變。對價格有沒有影響，這方面情緒和心理上影響較大。」
他認為國產供應向來有價格優勢，加上發展迅速，當國產設備進入供應鏈有可能令市場調整對半導體和記憶體企業的盈利預期，導致相關股份短期受壓。